【特許侵害訴訟】控訴審の逆転充足⑫【レーザーによつて材料を加工する装置事件】
平成24年(ネ)10023＜飯村＞
※クレーム文言解釈は、原審と同じ。
⇒事実認定が変更された。
⇒逆転充足（「流速が十分に高く」というクレーム文言の充足性を認めた。⇒作用効果を奏することを重視した。）
原審・平成20年(ワ)12409＜大鷹＞
損傷がない結果と「せき止め空間のない」構成との因果関係が否定された
⇒非充足
（判旨抜粋）
構成要件エの「せき止め空間のない」とは，液体が静止するために，透過するレーザービームにより温度が上昇し，これによって発生した熱レンズによってレーザービームの焦点がずれ，ノズル壁の損傷を引き起こす空間がないことを意味する。また，構成要件オの「液体の流速が，十分に高く」とは，上記「せき止め空間のない」との構成を採用することによって，「フォーカス円錐先端範囲において，レーザービームの一部がノズル壁を損傷しないところまで，熱レンズの形成が抑圧される」程度に流速が高いことを意味する。…被告製品は，「ノズル入口開口（３０）の周りにおいてせき止め空間のないように導かれ（る）」（…）との構成が採用され，そのことによって「フォーカス円錐先端範囲において，レーザービームの一部がノズル壁を損傷しないところまで，熱レンズの形成が抑圧される」程度（…）に「流速が，十分に高く」（…）したとの構成が採用されていると解するのが自然である。
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※本稿の内容は，一般的な情報を提供するものであり，法律上の助言を含みません。
執筆：弁護士・弁理士 高石秀樹（第二東京弁護士会）
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